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全球首家！英特尔开始用High NA EUV量产芯片

关键词：英特尔High NA EUV

时间：2026-7-15 17:00:40      来源：互联网

“ 7月15日，ASML发布的新闻稿宣布，英特尔Foundry正在Intel 18A工艺节点上采用ASML High NA EUV技术生产其的部分英特尔Core Ultra 3系列处理器。英特尔Foundry成为了业界首家采用High NA EUV发布大量逻辑产品的公司。
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7月15日，ASML发布的新闻稿宣布，英特尔Foundry正在Intel 18A工艺节点上采用ASML High NA EUV技术生产其的部分英特尔Core Ultra 3系列处理器。英特尔Foundry成为了业界首家采用High NA EUV发布大量逻辑产品的公司。

ASML和英特尔数十年来一直紧密合作，推动光刻技术的发展，并支持半导体的持续扩展。高数值孔径极紫外（High NA EUV）光刻工艺是极紫外光刻的重要下一步，由ASML开发，旨在实现先进芯片制造的更精确图案化。

英特尔 Core™ Ultra 3系列处理器代号为Panther Lake，基于Intel 18A构建，利用高NA EUV对这些产品特定层进行图案化，为ASML和英特尔Foundry提供了有用的数据，进一步优化系统设置、运行时间和制造实现。这为更广泛的应用铺平了道路，充分利用了技术的全部能力。

傅恪礼表示：“随着分辨率的提升和工艺控制的提升，High NA EUV的引入标志着半导体光刻技术的重大进展。”“我们自豪地能够在推动人工智能及其他新兴技术进步的更小、更密集的模式化中发挥作用。”

英特尔Foundry执行副总裁兼总经理Naga Chandrasekaran表示：“这一里程碑反映了英特尔与ASML之间的紧密技术合作，展示了High NA EUV如何大规模集成到先进半导体制造中。”“通过对部分Intel 18A产品层的High NA EUV工艺选项进行资格认证，我们现有的工具群为客户提供了更高的产出，同时我们也在开发未来方案，以实现未来节点的前沿性能、密度和制造灵活性。”

2024年，英特尔和ASML在俄勒冈州希尔斯伯勒的研发基地完成了业界首个商业High NA EUV光刻系统的集成。英特尔Foundry也是首家安装并通过第二代TWINSCAN EXE：5200B验收测试的公司，该型号基于TWINSCAN EXE：5000，提高了输出和叠加精度，同时配备了改进的光源。

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来源:中电网